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基于原子层沉积的新型纳米催化剂设计

发布时间: 2016-08-10 10:38 | 【 【打印】【关闭】

  SEMINAR
The State Key Lab of
High Performance Ceramics and Superfine Microstructure
Shanghai Institute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences

  中 国 科 学 院 上 海 硅 酸 盐 研 究 所 高 性 能 陶 瓷 和 超 微 结 构 国 家 重 点 实 验 室

  基于原子层沉积的新型纳米催化剂设计

  高 哲 博士

  中国科学院山西煤炭化学研究所

  时间:2016年8月15日(星期一)上午9: 00

  地点: 2号楼607会议室(国家重点实验室)

  欢迎广大科研人员和研究生参与讨论!

  联系人:施剑林(2712)

  报告摘要:

  原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)是一种先进的沉积技术。利用ALD的特点和优势,可设计合成高效纳米催化剂。报告内容主要结合报告人近年来在催化剂的界面结构调控、限域催化剂等方面的研究展开,揭示了ALD技术可以有效调控金属-氧化物的界面位点,并且可以设计纳米限域催化剂,研究限域机理等,为设计制备新型纳米催化剂提供了新的途径。

  报告人简介:

  高哲,博士,副研究员。2006 年于天津大学获得学士学位,2011年于中国科学院上海硅酸盐研究所获得博士学位。2011年至今在中国科学院山西煤炭化学研究所工作。

  研究领域为原子层沉积(ALD)及应用、多相催化,主要包括催化剂表界面结构的调控、限域催化剂的研究等,主持国家自然科学青年基金、煤转化国家重点实验室课题、山西煤化所创新人才项目等。在Angew. Chem. Int. Ed., ACS Nano, ACS Catal., Chem. Eur. J., Dalton Trans., J. Mol. Catal. A等杂志发表SCI论文20多篇。