生产厂家：FEI公司

负责人：刘紫微，宋雪梅

联系地址：嘉定区和硕路585号E-104

联系电话：69163761，69163762

邮件地址：ziweiliu@mail.sic.ac.cn，songxuemei@mail.sic.ac.cn

主要技术指标 

分辨率：二次电子（SE）像15kV时优于0.8nm，1kV时优于0.9nm，STEM模式，BF像30kV时优于0.6nm

仪器主要用途  

带能力单色过滤器，超高分辨率热场发射扫描电镜，低加速电压下具有较高的分辨率，能够直接观察不导电材料的显微结构，热场发射肖特基电子枪，束流大，且稳定，电子束流连续可调，适用于纳米尺寸的能谱(EDS）及背散射电子衍射（EBSD）的分析要求

生产厂家：日立公司

负责人：张积梅

联系地址：嘉定区和硕路585号E-103

联系电话：69163761，69163762

邮件地址：jmzhang@mail.sic.ac.cn

主要技术指标

分辨率：二次电子（SE）像，加速电压15kV时优于0.8nm；着陆电压1kV时优于1.1nm；

电子枪真空：优于2 10^-8；

电子束流条件范围：5pA~10nA;

二次电子探头：Lower,Upper,Top（含Energy filter).

仪器主要用途  

新型冷场发射电子枪具有更高的相干度、更高亮度、更小束斑等，因此成像质量更好。低加速电压下也具有较高的分辨率，这样可以减少电子书轰击对样品的损伤，以及减少观察不导电样品时的荷电现象，可以在低加速电压下获得较高衬度的背散射信号。有利于分析多相纳米材料，介孔材料等。

生产厂家： 日立公司

负责人：林初城

联系地址：嘉定区和硕路585号E-103

联系电话：69163761，69163762

邮件地址：chucheng@mail.sic.ac.cn

主要技术指标

二次电子分辨率：优于0.6nm（30kV），优于0.9nm（1kV）

STEM分辨率：优于0.4nm

仪器主要用途  

可高效率的获取样品超高分辨扫描电镜图像，Hitachi专利设计的EXB系统，可以自由控制SE和BSE检测信息，全新真空技术设计使其具有超稳定和高亮度特点。STEM的明场像能够调整信号检测角度，明场像、暗场像和二次电子图像可同时显示、拍摄。

生产厂家： 赛默飞公司

负责人：郑维

联系地址：嘉定区和硕路585号E-104

联系电话：69163761，69163762

邮件地址：zhengwei@mail.sic.ac.cn

主要技术指标 

二次电子分辨率≤0.6nm(15kV)

二次电子分辨率≤0.9nm（1kV）

仪器主要用途

扫描电子显微镜具有操作简便且得到的显微结构信息直观的特点，从而成为材料研究的重要手段之一，其主要用是分析各种材料的微纳米结构、缺陷分析和特定区域的微区成分分析。是获得材料表面或截面显微结构信息的常见工具。它具有图像分辨率高放大倍率大、对样品没有损伤、试样制备简单、景深大的特点。

生产厂家：FEI公司

负责人：王墉哲

联系地址：嘉定区和硕路585号E-104

联系电话：69163761，69163762

邮件地址：wangyongzhe@mail.sic.ac.cn

主要技术指标

二次电子分辨率：≤1.2nm（30kv）

离子束成像分辨率：≤7.0nm（30kv）

热台最高温度：1500  25

冷台最低温度：-185  5

仪器主要用途

聚焦离子束/电子束双束显微分析系统的主要功能是获得材料内部三维显微结构信息。它能定点制备感兴趣区域的透射电镜样品，避免制样的盲目性；它能利用离子束逐层加工样品同时利用电子束逐层观察和分析样品，从而获得材料内部三维显微结构信息；利用高温台和低温台可以原位观察材料在服役温度下显微结构的变化。通过三维和定点加工分析，可更多地了解材料内部显微结构，突破以往只能给出二维信息的障碍，对通过显微结构信息来指导材料工艺改进提供更多地科学依据。